光阻，亦稱為光阻劑，是一個(gè)用在許多工業(yè)制程上的光敏材料。像是光刻技術(shù)，可以在材料表面刻上一個(gè)圖案的被覆層。

光阻有兩種，正向光阻(positive photoresist)和負(fù)向光阻(negative photoresist)
正向光阻是光阻的一種，其照到光的部分會(huì)溶于光阻顯影液，而沒(méi)有照到光的部份不會(huì)溶于光阻顯影液。

負(fù)向光阻是光阻的一種，其照到光的部分不會(huì)溶于光阻顯影液，而沒(méi)有照到光的部份會(huì)溶于光阻顯影液。

正型光阻劑及負(fù)型光阻劑主要是應(yīng)用在LED芯片制造的金屬電極蒸鍍Lift-off制程中，由于LED電極所使用的金屬材料不易經(jīng)由蝕刻的方式制作電路圖形，所以利用拔起（Lift-off）微影制程，得到突起的（Overhang）光阻圖形，使金屬在蒸鍍過(guò)程中不會(huì)連續(xù)性滿布在光阻劑上，再用去光阻劑的方式將未遭金屬布蓋的光阻部份拔起，完成金屬電極的圖案。

半導(dǎo)體制程常用的正型光阻劑，在光學(xué)曝光方式下，光阻劑上層接受能量較下層光阻高，使得正型光阻劑成像大部份圖形為上窄下寬，無(wú)法經(jīng)一次曝光方式即得到Overhang的圖形，而負(fù)型光阻劑的成像恰好與正型光阻劑圖像相反，所以負(fù)型光阻劑是lift-off制程的最佳選擇。